更加小，越来越快！几十年来，小型化和更高的时钟频率沦为半导体生产的主要趋势，但机械方式却在渐渐超过无限大，所以崭新的激光时代经常出现了。 全世界都在渴求提供更好的微芯，并希望它们更加小、更加慢、更加低廉。1965年，英特尔牵头创始人戈登˙摩尔(GordonMoore)对半导体产业大胆预测：一个芯片上的晶体管数量约每18个月就不会刷一倍。
此后，业界为谋求每平方纳米，代价了几十亿美元的极大希望。一个现代智能手机CPU中的晶体管和流感病毒的大小相似，坚信迅速不会和病毒一样大小。
甚至于再行过多久，病毒不会看到晶体管不会开玩笑地想：这些面包屑是哪来的？可实质上晶体管到底可以再行小到什么程度？极具创意的半导体产业如是得出的答案是认同的：十分十分小。因此，我们必须更好的激光！ 根据阿贝分辨率容许，光源无法使大于其波长的结构光学。同时，科学家们找到，这个规则可以被拓展。当前的光刻系统以波长为193纳米的光工作，虽然他们用于了一些精妙的技术来构建小至22纳米的胶片尺寸，但被迫否认，目前我们用于的光源早已超过无限大。
为了在芯片的最底层建构大于的胶片，半导体行业中的主要成员创办了EUV光刻技术项目。该项目已被启动并且早已运营多达15年的时间。他们的目标是研发一个波长为13.5纳米的极紫外光源。
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